国際会議発表 (査読なし・不明)

• Hiroshi Nohira, 小松新, 山下晃司, Kuniyuki KAKUSHIMA, HIROSHI IWAI, Y. Hioshi, K. Sawano, Y. Shiraki. XPS Study on Chemical Bonding States of high-k/high-μ Gate Stacks for Advanced CMOS, ECS 220th Meeting, ECS Transactions, Vol. 41, No. 7, pp. 137-146, 2011.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 沢尻 侑也, 山下晃司, 小松 新, ダリューシュザデ, 角嶋邦之, 岩井洋, 野平博司. AR-XPSによる(NH４) ２S処理したIn0.53Ga0.47As表面の化学結合状態の評価, 第72回応用物理学会学術講演会, 2011.

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