国内会議発表 (査読なし・不明)

• 水藤 耕介, 櫻井 修, 塩田 忠, 脇谷 尚樹, Jeffrey S. Cross, 西山 昭雄, 篠崎 和夫. CVD法による陽極酸化多孔質アルミナ基板上へのGd2O3添加CeO2固体電解質薄膜の作製と電気特性評価, 日本セラミックス協会2016年年会, 日本セラミックス協会2016年年会講演予稿集, Mar. 2016.
• 水藤耕介, 櫻井修, 塩田忠, Jeffrey S Cross, 脇谷尚樹, 篠崎和夫. Ce(EtCp)3,Gd(EtCp)3 を原料とした減圧 CVD 法による Gd2O3 添加 CeO2 固体電解質膜の作製, 日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会, 日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集, B04, Sept. 2014.

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