@inproceedings{CTT100816746,
  author = {松浦賢太朗 and 清水淳一 and 外山真矢人 and 大橋匠 and 坂本拓朗 and 宗田伊理也 and 石原聖也 and 角嶋邦之 and 筒井一生 and 小椋厚志 and 若林整},
  title = {大面積集積化に向けたスパッタ二次元半導体 MoS2 薄膜のTop-gate nMISFETs チャネル応用},
  booktitle = {},
  year = 2019,
}

@inproceedings{CTT100816744,
  author = {松浦 賢太朗 and 清水 淳一 and 外山 真矢人 and 大橋 匠 and 宗田 伊理也 and 石原 聖也 and 角嶋 邦之 and 筒井 一生 and 小椋 厚志 and 若林 整},
  title = {大面積集積化に向けたスパッタMoS2薄膜を用いたTop-Gate nMISFETs},
  booktitle = {},
  year = 2018,
}

@inproceedings{CTT100818000,
  author = {K. Matsuura and J. Shimizu and M. Toyama and T. Ohashi and I. Muneta and S. Ishihara and K. Kakushima and K. Tsutsui and A. Ogura and H. Wakabayashi},
  title = {Chip-Level-Integrated nMISFETs with Sputter-Deposited-MoS2 Thin Channel Passivated by Al2O3 Film and TiN Top Gate},
  booktitle = {2018 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference, EDTM 2018 - Proceedings},
  year = 2018,
}

@inproceedings{CTT100904004,
  author = {大橋 匠 and 坂本 拓朗 and 松浦 賢太朗 and 清水 淳一 and 外山 真矢人 and 石原 聖也 and 日比野 祐介 and 宗田 伊理也 and 角嶋 邦之 and 筒井 一生 and 小椋 厚志 and 若林 整},
  title = {Migration制御したスパッタリング法による2次元層状MoS2成膜},
  booktitle = {},
  year = 2018,
}

@inproceedings{CTT100808048,
  author = {M. Toyama and T. Ohashi and K. Matsuura and J. Shimizu and I. Muneta and K. Kakushima and K. Tsutsui and H. Wakabayashi},
  title = {TiN/Ti Ohmic Contact for Sputtered-MoS2 Film using Forming-Gas Annealing},
  booktitle = {},
  year = 2017,
}

@inproceedings{CTT100903978,
  author = {外山 真矢人 and 大橋 匠 and 松浦 賢太朗 and 清水 淳一 and 宗田 伊理也 and 角嶋 邦之 and 筒井 一生 and 若林 整},
  title = {スパッタリング法で堆積したMoS2薄膜へのコンタクト抵抗と熱処理依存性},
  booktitle = {},
  year = 2017,
}