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特許情報


発明の名称
高レベル放射性物質処理システム及び高レベル放射性物質処理方法 
発明者
中瀬正彦, 塚本　泰介, 小川　尚樹, 垣谷　健太, 島田　隆, 柿木　浩一.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 三菱重工業株式会社.  
出願日
2020/03/30
出願番号
特願2020-060280
公開日
2021/10/07
公開番号
特開2021-156851

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