論文

• R. Takei, K. Yoshida, T. Mizumoto. Effect of wafer pre-cleaning and plasma irradiation to wafer surfaces for plasma-assisted surface activated bonding, Japanese Journal of Applied Physics, vol. 49, no. 8, Aug. 2010.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 吉田幸平, 武井亮平, 水本哲弥. 表面活性化接合におけるプラズマ照射時間と表面粗さの関係, 2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会, 2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会講演論文集, 応用物理学会, 1aB-7, Mar. 2009.
• 武井, 佐々木, 桐田, 吉田, 水本. シリコン導波路型光サーキュレータの提案, 光エレクトロニクス研究会, 電子情報通信学会技術報告書, 電子情報通信学会, Vol. 106, No. 54, pp. 41-46, Dec. 2008.

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