国内会議発表 (査読有り)

• 野平博司, 白石 貴義, 高橋 健介, 柏木 郁未, 大島 千鶴, 大見俊一郎, 岩井洋, 城森 慎司, 中嶋 薫, 鈴木 基史, 木村 健二, 服部 健雄. 極薄希土類酸化膜/Si(100)界面構造（極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術）, 電子情報通信学会技術研究報告、SDM、シリコン材料・デバイス, 電子情報通信学会, Vol. 103, No. 149, pp. 25-29, June 2003.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• Kamale Tuokedaerhan, 金田翼, マイマイティ マイマイティレャアティ, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 筒井一生, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 服部健雄, 岩井洋. La2O3/n-Si 構造に対するPost Deposition Annealの電気特性への影響, 第72回応用物理学会学術講演会, 2011.
• 常石佳奈, 来山大祐, 幸田みゆき, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 筒井一生, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 服部健雄, 岩井洋. W/Tm2O３/n-Si構造キャパシタの電気特性におけるTm2O３膜厚依存性, 第72回応用物理学会学術講演会, 2011.

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