論文

• Reika Ota, Shinnosuke Yasuoka, Ryoichi Mizutani, Takahisa Shiraishi, Kazuki Okamoto, Kuniyuki Kakushima, Tomoyuki Koganezawa, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Scalable ferroelectricity of 20-nm-thick (Al0.8Sc0.2)N thin films sandwiched between TiN electrodes, J. Appl. Phys., vol. 134, pp. 214103-1-6, Dec. 2023.
• Shinnosuke Yasuoka, Ryoichi Mizutani, Reika Ota, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Kazuki Okamoto, Masato Uehara, Hiroshi Yamada, Morito Akiyama, Hiroshi Funakubo. Invariant polarization switching kinetics in an (Al0.2Sc0.8)N film with frequency and temperature, Appl. Phys. Lett., vol. 123, pp. 202902, Nov. 2023.
• Taichi Murashita, Yuxian Hu, Yuma Takahashi, Reika Ota, Kazuki Okamoto, Hiroshi Funakubo. Preparation of {100}-oriented (1-x)(Bi,K)TiO3-xCaTiO3 solid solution epitaxial films by hydrothermal method and their ferroelectric and piezoelectric properties, Jpn. J. Appl. Phys., vol. 62, No. SM, pp. 1012-1-8, July 2023.
• Shinnosuke Yasuoka, Ryoichi Mizutani, Reika Ota, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Masato Uehara, Hiroshi Yamada, Morito Akiyama, Hiroshi Funakubo. Tunable Ferroelectric Properties in Wurtzite (Al0.8Sc0.2)N via Crystal Anisotropy, ACS Appl. Electron. Mater., Vol. 4, pp. 5165−5170, Oct. 2022.
• Shinnosuke YASUOKA, Ryoichi MIZUTANI, Reika OTA, Takahisa SHIRAISHI, Takao SHIMIZU, Shintaro YASUI, Yoshitaka EHARA, Ken NISHIDA, Masato UEHARA, Hiroshi YAMADA, Morito AKIYAMA, Yasuhiko IMAI, Osami SAKATA, Hiroshi FUNAKUBO. Enhancement of crystal anisotropy and ferroelectricity by decreasing thickness in (Al,Sc)N films, J. Ceram. Soc. Jpn., Vol. 130, No. 7, pp. 436-441, July 2022.

国際会議発表 (査読有り)

• Taichi Murashita, Hu Yuxian, Yuma Takahashi, Reika Ota, Kazuki Okamoto, Hiroshi Funakubo. Preparation of {100}-Oriented Epitaxial (1-x)(Bi,K)TiO3-xCaTiO3 Solid Solution Films by Hydrothermal Method and Their Ferroelectric Property, 2023 MRS Fall Meeting & Exhibit, Nov. 2023.
• Reika Ota, Shinnosuke Yasuoka, Kazuki Okamoto, Yoshihiro Ueoka, Yoshiro Kususe, Masami Mesuda, Hiroshi Funakubo. Ferroelectric Property Improvement of (Al1-x-yGaxScy)N Ternary Thin Films, 2023 MRS Fall Meeting & Exhibit, Nov. 2023.
• Shinnosuke Yasuoka, Ryoichi Mizutani, Reika Ota, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Masato Uehara, Hiroshi Yamada, Morito Akiyama, Hiroshi Funakubo. Establishment of Control Method for Ferroelectric Properties in (Al1-xScx)N Films, 2022 MRS Spring Meeting & Exhibit, May 2022.

国際会議発表 (査読なし・不明)

• Kazuki Okamoto, Reika Ota, Shinnosuke Yasuoka, Yoshihiro Ueoka, Yoshiro Kususe, Masami Mesuda, Hiroshi Funakubo. Crystal structure and electrical properties of (Al, Ga, Sc)N temary thin films prepared by RF sputtering, MNC 2023 (36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference), Nov. 2023.
• Hiroshi Funakubo, Shinnosuke Yasuoka, Ryoichi Mizutani, Takahisa Shiraishi, Akinori Tateyama, Reika Ota, Kazuki Okamoto, Takao Shimizu, Masato Uehara, Hiroshi Yamada, Morito Akiyama. Thickness Scaling and Low Voltage Operation of Ferroelectric (Al1-xScx)N Films Prepared by Sputtering Method, 2022 MRS Fall Meeting & Exhibit, Nov. 2022.
• Reika Ota, Shinnosuke Yasuoka, Ryoichi Mizutani, Takahisa Shiraishi, Kuniyuki Kakushima, Hiroshi Funakubo. Ferroelectricity of 20-nm Thick (Al0.8Sc0.2)N Thin Films with TiN Electrodes, 2022 U.S.-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics, Nov. 2022.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 大田怜佳, 安岡慎之介, 中村美子, 岡本一輝, 原浩之, 正能大起, 上岡義弘, 召田雅実, 舟窪浩. Ga添加によるAlNへのSc固溶量の増加とその強誘電性および圧電性への影響, 第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.
• 村下太一, HUYUXIAN, 高橋雄真, 大田怜佳, 岡本一輝, 舟窪浩. 水熱合成法を用いた(Bi,K)TiO3-CaTiO3 固溶体薄膜の作製とそのアニール効果, 第40回強誘電体会議（FMA40）, May 2023.
• 村下太一, 胡雨弦, 高橋雄真, 大田怜佳, 岡本一輝, 舟窪浩. 水熱合成法で作製された(Bi,K)TiO3-CaTiO3固溶体薄膜の強誘電特性, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 安岡慎之介, 大田怜佳, 岡本一輝, 清水荘雄, 舟窪浩. NbN電極上に作製したエピタキシャル(Al, Sc)N膜の電気特性評価, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 村下太一, 胡雨弦, 高橋雄真, 大田怜佳, 岡本一輝, 舟窪浩. 水熱合成法を用いた (Bi, K)TiO3基固溶体の薄膜作製とその強誘電性, 第61回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2023.
• 大田怜佳, 安岡慎之介, 岡本一輝, 上岡義弘, 楠瀬好郎, 召田雅実, 舟窪浩. (Al1-x-yGaxScy)N薄膜の結晶構造および強誘電性, 第83回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2022.
• 岡本一輝, 安岡慎之介, 大田怜佳, 舟窪浩, 松井尚子, 入澤寿和, 恒川孝二. 水素ガス熱処理が(Al,Sc)N 薄膜の強誘電特性へ及ぼす影響, 第83回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2022.
• 安岡慎之介, 大田怜佳, 岡本一輝, 石濱圭佑, 清水荘雄, 角嶋邦之, 上原雅人, 山田浩志, 秋山守人, 小金澤智之, L. S. R. Kumara, Okkyun Seo, 坂田修身, 舟窪浩. メモリ応用に向けた(Al, Sc)N膜の薄膜化の検討, 第83回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2022.
• 安岡慎之介, 水谷涼一, 大田怜佳, 白石貴久, 清水荘雄, 安井伸太郎, 江原祥隆, 西田謙, 上原雅人, 山田浩志, 秋山守人, 今井康彦, 坂田修身, 舟窪浩. 薄膜化による(Al,Sc)N膜の結晶異方性及び強誘電特性の向上, 第69回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2022.
• 安岡慎之介, 水谷涼一, 大田怜佳, 白石貴久, 清水荘雄, 上原雅人, 山田浩志, 秋山守人, 舟窪浩. 面内配向及び熱歪による(Al,Sc)N薄膜の強誘電特性の制御, 第69回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2022.
• 大田怜佳, 安岡慎之介, 水谷涼一, 白石貴久, 舟窪浩. 種々の電極を用いた(Al1-x,Scx)N薄膜の強誘電性評価, 第69回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2022.
• 安岡慎之介, 水谷涼一, 大田怜佳, 白石貴久, 清水荘雄, 上原雅人, 山田浩志, 秋山守人, 舟窪浩. 強誘電体(Al1-xScx)N薄膜の結晶構造と電気特性の関係, 第41回電子材料研究討論会, Nov. 2021.

特許など

• 舟窪浩, 白石貴久, 安岡慎之介, 水谷涼一, 大田怜佳, 召田　雅実　, 楠瀬　好郎, 上岡　義弘　, 末本　祐也　, 飯浜　準也　. 窒化アルミニウムスカンジウム膜及び強誘電体素子. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社. 2023/03/30. PCT/JP2023/013181. 2023/10/05. WO 2023/190869. 2023.

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