特許など

• 舟窪浩, 清水荘雄, 青山航大, 召田　雅実, 秋池　良. バリウムおよびストロンチウムを含む珪化物薄膜及びその製造方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社. 2019/09/03. 特願2019-160314. 2021/03/11. 特開2021-038433. 特許第7474434号. 2024/04/17 2024.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 長谷川光勇, 石濱圭佑, 佐藤　祐介, 佐藤　和希子, 石田　未来. 誘電性薄膜、誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社. 2019/09/11. 特願2020-546060. 2021/09/30. 再表2020/054779. 特許第7515113号. 2024/07/04 2024.

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