論文

• Tomoya Sato, Daichi Ichinose, Takaaki Inoue, Mutsuo Uehara, Kiriha Katayama, Hiroshi Funakubo, Kiyoshi Uchiyama. Evaluation of Chemical Stability in Perovskite-Type Proton-Conductive Oxide Thin-Films, Science of Advanced Materials, vol. 10, pp. 8-11, Jan. 2018.

国際会議発表 (査読有り)

• Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiko Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Stability of Ferroelectric Phase in Epitaxial HfO2-based Films, 2017 Joint IEEE ISAF-IWATMD-PFM Conference, May 2017.

国際会議発表 (査読なし・不明)

• Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Thickness-dependent phase stability of epitaxial ferroelectric HfO2-based films, STAC-10 (The Tenth International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics), Aug. 2017.
• Takao Shimizu, Kiriha Katayama, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Shogo Nakamura, Toyohiko Konno, Hiroshi Funakubo. Ferroelectricity in HfO2-based epitaxial thin film, Pacifichem 2015, Dec. 2015.
• Takao Shimizu, Kiriha Katayama, Tatsuhiko Yokouchi, Takahiro Oikawa, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Toyohiko Konno, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Preparation of Fluorite-Structured Ferroelectric Thin Films and Their Characterization, 015 International Workshop on Dielectric Thin Films for future electron devices-science and technology, Nov. 2015.
• K. Katayama, T. Shimizu, O. Sakata, T. Kiguchi, A. Akama, T. J. Konno, S. Nakamura, H. Uchida, H. Funakubo. Growth and structural analysis of epitaxial orthorhombic YO1.5-HfO2 thin films, NIMS Conference 2015, July 2015.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 白石貴久, 中村奨梧, 範滄宇, 片山きりは, 清水荘雄, 舟窪浩, 木口賢紀, 今野豊彦. 酸化物薄膜の構造解析～HfO2基極薄膜の斜方晶相について～, 共用・計測 合同シンポジウム2016 微細構造解析プラットフォーム・ワークショップ NIMS先端計測シンポジウム2016 合同シンポジウム, Mar. 2016.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 内田寛. 配向制御したHfO2基強誘電体の作製とその強誘電特性評価, 日本セラミックス協会 2016年年会, Mar. 2016.
• 三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 内田 寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪 浩. 固相成長による配向制御したHfO2基強誘電体薄膜の作製と特性評価, 第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016.
• 陳 舟, 平永良臣, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 舟窪 浩, 長 康雄. 走査型非線形誘電率顕微鏡における強誘電性Y:HfO2薄膜のドメイン反転, 第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016.
• 片山きりは, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 内田寛, 舟窪浩. HfO2 基エピタキシャル薄膜における強誘電相の安定化, 第54回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2016.
• 三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 舟窪浩, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦. 固相成長法を用いた強誘電体HfO2 基薄膜のエピタキシャル成長と特性評価, 第54回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2016.
• 陳舟, 平永良臣, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 舟窪浩, 長康雄. 強誘電性Y:HfO2薄膜におけるナノスケールドメイン反転, 電子情報通信学会研究会, 2016.
• 中村奨梧, 木口賢紀, 白石貴久, 範 滄宇, 今野豊彦, 片山きりは, 清水荘雄, 舟窪 浩. 斜方晶ハフニア薄膜の強誘電相構造, 第35回エレクトロセラミックス研究討論会, Oct. 2015.
• 白石貴久, 片山きりは, 横内達彦, 清水荘雄, 及川貴弘, 内田 寛, 舟窪 浩, 木口賢紀, 今野豊彦. 種々の基板上に作製した (Hf0.5Zr 0.5)O2薄膜の特性, 第35回エレクトロセラミックス研究討論会, Oct. 2015.
• 清水 荘雄, 片山 きりは, 木口 賢紀, 赤間 章裕, 今野 豊彦, 内田 寛, 坂田 修身, 舟窪 浩. 斜方晶エピタキシャルHfO2基薄膜のドメイン構造, 第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2015.
• 舟窪 浩, 白石 貴久, 片山 きりは, 横内 達彦, 清水 荘雄, 及川 貴弘, 内田 寛. (Hf0.5Zr0.5)O2 薄膜の強誘電性に及ぼす歪の効果, 日本金属学会２０１５年秋期講演大会, Sept. 2015.
• 中村奨梧, 範滄宇, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 片山きりは, 清水荘雄, 横内達彦, 及川貴弘, 舟窪浩. ABF-STEM 法を用いた斜方晶HfO2の分極構造の解析, 日本セラミックス協会第28回秋季シンポジウム, Sept. 2015.
• 片山 きりは, 清水 荘雄, 木口 賢紀, 赤間 章裕, 今野 豊彦, 内田 寛, 坂田 修身, 舟窪 浩. Si基板上への斜方晶エピタキシャルHfO2基薄膜の作製, 第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2015.
• 片山きりは, 清水荘雄, 白石貴久, 及川貴弘, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 中村奨梧, 内田 寛, 舟窪 浩. 斜方晶相を含むエピタキシャルHfO2 基薄膜の作製と評価, 第32回強誘電体応用会議（FMA 32）, May 2015.
• 阿部千穂子, 塩川真里奈, 片山きりは, 白石貴久, 清水荘雄, 舟窪 浩, 内田 寛. CSD 由来HfO2-ZrO2 固溶体薄膜の結晶構造と誘電特性, 第32回強誘電体応用会議（FMA 32）, May 2015.

特許など

• 清水荘雄, 舟窪浩, 片山きりは, 三村和仙. 強誘電性薄膜、電子素子及び製造方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学. 2015/08/28. 特願2016-545654. 2017/06/15. 再表2016/031986. 特許第6661197号. 2020/02/14 2020.

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